"Etching" é o processo de remoção da camada superficial de um dado material. Esta remoção pode ser conseguida recorrendo a substâncias químicas que dissolvem ou corroem a superfície do material. O Etching nada mais é do que um processo de corrosão muito bem controlado.
Meaning
Treatment of a surface with an acid, a chemical solution or primer in order to dissolve loose particles or provide a profile. (specialchem4coatings.co...)
Exemplos de tradução
The material was subjected to different heat treatments in order to modify their mechanical properties, and to the surface finishes of blasting, chemical etching and electropolishing to analyze their effects on surface finish.
O material foi submetido a diferentes tratamentos térmicos com o intuito de modificar suas propriedades mecânicas, e a acabamentos de jateamento, ataque químico e polimento eletroquímico para analisar os efeitos dos mesmos no acabamento de superfície.
Conclusions: Hydrofluoric acid etching proved to be a treatment capable of altering the surface roughness of Y-TZP and glass, probably, was not able to penetrate the ceramic material and only had the role of protecting the surface from acid etching.
Conclusões: O ataque com ácido fluorídrico demonstrou ser um tratamento capaz de alterar a rugosidade superficial da Y-TZP e o vidro, provavelmente, não foi capaz de penetrar no material cerâmico e teve tão somente o papel de proteger a superfície do ataque ácido.
Significado
tratamento (modificação) e remoção do material não coberto por fotorresiste usando um solvente ou ácido apropriado, muitas vezes através de um processo eletrolítico.
Meaning
The process of selectively removing any material not protected by a resist using an appropriate solvent or acid. In some cases the unwanted material is removed using an electrolytic process. (maxmon.com...)
Exemplos de tradução
Reactive Ion etching processes of silicon and silicon dioxide in a parallel plate reactor were established using SF6 and SF6/O2 gas mixture.
Foram estabelecidos processos de corrosão iônica reativa (RIE) do silício e dióxido de silício em um reator de placas paralelas utilizando SF6 e a mistura gasosa SF6/O2.
In the sensor fabricated at CCS/Unicamp process, a backside bulk micro-machining was performed by using an automated KOH chemical etching apparatus, which provides a well-controlled anisotropic etching process.
Já para o sensor fabricado na tecnologia do CCS/Unicamp, utilizamos um aparato de corrosão química (solução de KOH) para corrosão anisotrópica do silício monocristalino e, desta forma, obtivemos uma membrana com maior qualidade.
Aplicação de ácidos à superfície dos metais para evidenciar sua estrutura granular; feito no condicionamento ácido do esmalte, antes da aplicação dos compósitos.
Exemplos de tradução
Avaliar o efeito de diferentes tempos de condicionamento ácido e
tratamentos de superfície na resistência ao cisalhamento da cerâmica vítrea de
dissilicato de lítio ao cimento resinoso.
To evaluate the effect of different acid etching times and surface
treatments on the shear strength of lithium disilicate vitreous ceramics to resin
cement.
Significado
Gravura sobre metal, normalmente em placa de cobre ou de zinco que é coberta com uma camada uniforme de verniz. Desenha-se sobre esta com a ajuda de um instrumento de ponta que remove esta camada de verniz das linhas trabalhadas, expondo assim o metal. De seguida, a placa é colocada numa bacia com ácido (ácido nítrico, percloreto de ferro, mordente holandês), que corroerá as partes expostas do metal que estão sem a proteção do verniz, produzindo o sulco da imagem. Este modo de proceder permite um maior controlo da espessura das linhas, que vai ser determinado pelo tempo que a placa sofre a ação do ácido.
Meaning
A printmaking technique which transfers the inked image from lines cut in a metal (or plastic) plate to paper. The process needs a strong press. (wetcanvas.com...)
Exemplos de tradução
It is the production of metal engravings, etched on copper, with the procedures of etching, aquatint, burin and drypoint, printed in diverse papers.
Trata-se da produção de gravuras em metal, gravadas sobre cobre, com os procedimentos da água-forte, água-tinta, buril e ponta seca, estampadas em papéis diversos.
Banco de Glossários (traduções não verificadas)
Área
Inglês
Português
Qualidade
Mecânica
etching
Ataque químico; deslustramento; caustificação
Mecânica
etching
caustificação
Impressão & Gráfica
etching
gravura em chapa, gravação
Téc/Geral
etching
condicionamento químico
Mecânica
acid etching
ataque químico por ácido
Téc/Geral
zinc etching
zincografia, zincogravura a traço
Téc/Geral
acid etching
ataque/condicionamento ácido
Téc/Geral
acid etching
ataque ácido
Téc/Geral
self-etching
autocondicionante
Mecânica
etching bands
linhas de corrosão
Medicina
Freeze-etching
Criogravação
Téc/Geral
etching needles
Buril para gravar água-forte
Téc/Geral
sputter etching
cauterização de excitação
Mecânica
Chemical etching
Ataque químico
Téc/Geral
chemical etching
ataque químico
Mecânica
Black acid etching
ataque ácido preto
Medicina
Freeze-etching method
Método de criogravação
Téc/Geral
electrochemical etching
corrosão eletroquimica
Frases traduzidas contendo "etching"
Reactive Ion etching processes of silicon and silicon dioxide in a parallel plate reactor were established using SF6 and SF6/O2 gas mixture.
Foram estabelecidos processos de corrosão iônica reativa (RIE) do silício e dióxido de silício em um reator de placas paralelas utilizando SF6 e a mistura gasosa SF6/O2.
This in vitro study evaluated the influence of whitening activated with hybrid light on the function variations of the pH level and concentration of bleaching gels and prior acid etching of bovine enamel and the change in roughness and wear after simulated tooth brushing.
Este estudo in vitro avaliou a influência do clareamento ativado com luz híbrida, em função da variação do pH e concentração de géis clareadores, e do condicionamento ácido prévio do esmalte bovino na alteração da rugosidade e desgaste após escovação simulada.
Specimens were randomly divided into 5 groups, excluding the control group for MTBS: SC (control) - no ceramic surface treatment; etching with HF acid 1% (HF1), 3% (HF3), 5% (HF5) and 10% (HF10) for 60.
Os espécimes foram divididos aleatoriamente em 5 grupos, excluindo o grupo controle para MTBS: SC (controle) - sem tratamento da superfície cerâmica; condicionamento com ácido HF 1% (HF1), 3% (HF3), 5% (HF5) ou 10% (HF10) por 60 s.
etching with 5% hydrofluoric acid had a deleterious effect on the fatigue failure loads of adhesively cemented feldspathic ceramic crowns and discs, while etching with 10% hydrofluoric acid had no negative influence in both tested conditions (crowns and discs).
O condicionamento com ácido fluorídrico 5% teve um efeito deletério nos valores de carga para falha em fadiga de coroas e discos de cerâmica feldspática cimentados adesivamente, visto que o condicionamento com ácido fluorídrico 10% não teve influência negativa em ambas as condições testadas (coroas e discos).
Sixty roots were randomly divided into six groups (n = 10) in accordance with the cleaning technique: water (control), 5% sodium hypochlorite and sodium hypochlorite 5% + ultrasonic agitation; and the strategies of cementation: etching with phosphoric acid 37% (Condac, FGM) +_Adper Single Bond 2 adhesive resin + RelyX ARC adhesive resin cement conventional or self-adhesive resin cementRelyX U1,0 (3M ESPE).
Sessenta raízes foram aleatoriamente divididas em 6 grupos (n=10) conforme a técnica de limpeza: água (controle); hipoclorito de sódio 5% e hipoclorito de sódio 5% + ultrassom; e a estratégia de cimentação: condicionamento com ácido fosfórico 37% (Condac, FGM) + sistema adesivo Adper Single Bond 2 (3M ESPE, St Paul, MN, EUA) + cimento adesivo convencional RelyX ARC ou cimento resinoso auto-adesivo RelyX U1,0 (3M ESPE).
Only the normal substrate, when rehydrated, after acid etching. with distilled water (control), is the one that presented BS values to the dentin significantly higher to the others.
Apenas o substrato normal, quando reidratado, após condicionamento ácido, com água destilada (controle), é que apresentou valores de RU à dentina significativamente superiores aos demais.
The present in vitro study aimed to analyze the etching patterns of lithium disilicate based ceramic after three etching times with 10% hydrofluoric acid, and the influence of these times on the shear bond strength of ceramic cylinders and compression resistance of ceramic plates cemented to bovine enamel teeth.
Este estudo in vitro propôs analisar os padrões de condicionamento da superfície da cerâmica a base de dissilicato de lítio após três tempos de condicionamento com ácido fluorídrico a 10%, a influência desses tempos na resistência ao cisalhamento de cilindros cerâmicos e à compressão de placas cerâmicas cimentadas em esmalte de dentes bovinos.
The aim of this double blind split-mouth randomized clinical study was to evaluate, in vivo, the effectiveness of prior acid etching on enamel and low concentration bleaching gels based on hydrogen peroxide (HP) associated with hybrid light (HL) sources, having as response variables: dental sensitivity, dental pulp vascularization and degree of color change and stability over 6 months.
O objetivo deste estudo clínico randomizado duplo cego boca-dividida foi avaliar, in vivo, a efetividade do condicionamento ácido prévio do esmalte e de géis clareadores a base de peróxido de hidrogênio (PH) de baixa concentração, associados a fontes de luz híbrida (LH), tendo como variáveis de reposta: sensibilidade dental, fluxo sanguíneo pulpar, grau de mudança e estabilidade de cor ao longo de 6 meses.
The groups were further divided (n=10) according to the application of a Universal Adhesive System (total etching or self etching).
Em seguida, os grupos foram novamente divididos (n=10) de acordo com a aplicação do Sistema Adesivo Universal (condicionamento total ou autocondicionamento).
The material was subjected to different heat treatments in order to modify their mechanical properties, and to the surface finishes of blasting, chemical etching and electropolishing to analyze their effects on surface finish.
O material foi submetido a diferentes tratamentos térmicos com o intuito de modificar suas propriedades mecânicas, e a acabamentos de jateamento, ataque químico e polimento eletroquímico para analisar os efeitos dos mesmos no acabamento de superfície.
The specimens were nominated at random and submitted to the following treatments before cementation: G1 : without acid etching; G2 : 20 s of etching with 10% hydrofluoric acid; G3 : 40 s of etching with 10% hydrofluoric acid; G4 : 60 s of etching with 10% hydrofluoric acid and G5 : 2 min of etching with 10% hydrofluoric acid.
Os espécimes foram nomeados ao acaso e submetidos aos seguintes tratamentos antes da cimentação: G1: sem condicionamento ácido; G2: 20 s de condicionamento com ácido fluorídrico a 10%; G3: 40 s e condicionamento com ácido fluorídrico a 10%; G4: 60 s de condicionamento com ácido fluorídrico a 10% e G5: 2 min de condicionamento com ácido fluorídrico a 10%.
The current thesis describes the use of abrasive water jet as an etching tool in Branco de Cachoeiro de Itapemirim Marble plate and in float glass plate.
O presente trabalho descreve a utilização do jato d'água abrasivo como ferramenta de gravação em ladrilhos de Mármore Branco de Cachoeiro de Itapemirim e em placas de vidro plano comum.
Conclusions: Hydrofluoric acid etching proved to be a treatment capable of altering the surface roughness of Y-TZP and glass, probably, was not able to penetrate the ceramic material and only had the role of protecting the surface from acid etching.
Conclusões: O ataque com ácido fluorídrico demonstrou ser um tratamento capaz de alterar a rugosidade superficial da Y-TZP e o vidro, provavelmente, não foi capaz de penetrar no material cerâmico e teve tão somente o papel de proteger a superfície do ataque ácido.
In addition, the silica matrix can be easily removed after the pyrolysis under high pressure by chemical etching with fluoridric acid.
Trata-se de um sistema comercial, de baixo custo, que apresenta dispersão em nível atômico de material carbonáceo na matriz inerte de sílica.
The final step was production of BWT rib waveguides using lithography and reactive-ion etching in order to test light guiding at 632,8 nm and 10,0 nm.
Como etapa, final foram produzidos guias de onda do tipo rib por meio de procedimentos de corrosão e litografia, a fim de que fossem testados guiamentos de luz em 632,8 nm e em 10,0 nm.
The accelerated degradation test simulates the etching with sulfuric acid, present in sewage systems (pH 1,1) of the test specimens for mechanical tensile and impact.
O ensaio de degradação acelerada simula o ataque químico com ácido sulfúrico, presente nas RCEs (pH de 1,1) dos corpos de prova para ensaios mecânicos de tração e impacto.
The yttria stabilized zirconia (Y- TZP) has excellent mechanical properties, however its inert crystalline microstructure makes treatments applied in porcelain and glass ceramics, such as hydrofluoric acid etching and application of silane compounds, are ineffective for the union resin cements.
A zircônia estabilizada por ítria (Y-TZP) apresenta excelentes propriedades mecânicas; entretanto, sua microestrutura cristalina inerte faz com que tratamentos aplicados em porcelanas e vitrocerâmicas, como condicionamento com ácido fluorídrico e aplicação de compostos silânicos, sejam ineficazes para obter união aos cimentos resinosos.
Thus, the aim of this investigation was: 1) to test the null hypothesis that shear strength of brackets bonded to feldspathic and AllCeram porcelain surfaces is not affected by different hydrofluoridric etching times and 2) to test the null hypothesis that there is no direct relation between shear strength values and the adhesive remanescent index (ARI).
Portanto, os objetivos deste trabalho foram: 1) Verificar se a força de cisalhamento em braquetes colados em superfícies de porcelana feldspática e AllCeram é afetada por diferentes tempos de ataque com ácido hidrofluorídrico e 2) Observar se existe uma relação direta entre os valores obtidos da força de cisalhamento e o índice remanescente de adesivo (IRA).
Recent orthodontic bonding materials have aimed to reduce the working time of the clinician, by simplifying the acid etching procedure by applying self- etching primer adhesive systems.
Os recentes materiais de colagem dos acessórios ortodônticos têm visado reduzir o tempo de trabalho do clínico, simplificando o procedimento do condicionamento ácido por meio dos sistemas adesivos autocondicionantes.
The innovativeness of the artist, who established the teaching of metal etching as art in Rio de Janeiro, is evident.
O trabalho evidencia a modernidade desse artista que instala no Rio de Janeiro o ensino da gravura em metal como arte.
The ICL were produced using DE-RE cycling and the specimens were randomized in five groups, according to the treatment (n=12): Vcontrol (5% sodium fluoride varnish during 4h), and four groups previously preatreated with topical application of acidulated phosphate fluoride (APF) during 4min: F (without pretreatment), P-F (phosphoric acid etching during 30s), Al-F (0,05M aluminum nitrate during 1min); P-Al-F (phosphoric acid etching + aluminum nitrate).
LI foram produzidas através de ciclagem Desmineralização-Remineralização (DES-RE) e os espécimes divididos aleatoriamente em cinco grupos, de acordo com o tratamento (n=12): V- controle (verniz de fluoreto de sódio 5% por 4 horas), F (sem pré-tratamento); P-F(condicionamento ácido com ácido fosfórico por 30s); Al-F (nitrato de alumínio a 0,05M por 1min); P-Al-F (condicionamento com ácido fosfórico a 37% + nitrato de alumínio a 0,05M).
Samples were randomly divided into six groups (n=10), according to one of the following surface treatments: etching with 10% hydrofluoric acid for 2 or 4min (G1 and G2); sandblasting with aluminum oxide (50µm) for 5s (G3); sandblasting followed by etching for 2 or 4min (G4 e G5) and control (G6).
As amostras foram divididas aleatoriamente em seis grupos (n=10), de acordo com um dos seguintes tratamentos de superfície: condicionamento com ácido fluorídrico por 2 e 4min (G1 e G2), jateamento com óxido de alumínio (50µm) por 5s (G3), jateamento seguido de ácido fluorídrico por 2 e 4min (G4 e G5) e controle (G6).
This study aimed to investigate the influence of shortening the etching time on bond of adhesive systems to sound and caries-affected dentin of primary teeth by microtensile and nanoleakage tests, and micromorphological evaluation of the adhesive interface.
Este estudo objetivou investigar a influência da redução do tempo de condicionamento na união de sistemas adesivos à dentina hígida e afetada por cárie de dentes decíduos, por meio de testes de microtração, nanoinfiltração e avaliação micromorfológica da interface adesiva.
These sensors are fabricated using microfabrication techniques and the thin films are selectives to wet etching.
Estes sensores são construídos a partir de técnicas de microfabricação, utilizando filmes finos seletivos a corrosão úmida.
Three surface treatments for each experimental material were selected: 1- blasting with Al2,3 particles (J), 2- etching with hydrofluoric acid 10% by 20 seconds (20) and 3- etching with hydrofluoric acid 10% for 60 seconds (60).
Três tratamentos de superfícies para cada material experimental foram selecionados: 1- jateamento com partículas de Al2,3 (J), 2- ataque ácido com ácido hidrofluorídrico a 10% por 20 segundos (20) e 3- ataque ácido com ácido hidrofluorídrico a 10% por 60 segundos (60).
In the sensor fabricated at CCS/Unicamp process, a backside bulk micro-machining was performed by using an automated KOH chemical etching apparatus, which provides a well-controlled anisotropic etching process.
Já para o sensor fabricado na tecnologia do CCS/Unicamp, utilizamos um aparato de corrosão química (solução de KOH) para corrosão anisotrópica do silício monocristalino e, desta forma, obtivemos uma membrana com maior qualidade.
The waveguides and the optical sensors were fabricated using conventional lithograph and etching processes.
A definição destes guias de ondas para a implementação de sensores é feita por processos convencionais de litografia e corrosão.
Each subgroup received five different treatments: (1) applying the adhesive system following manufacturer's recommendations, (2) etching with 37% phosphoric acid for 15 " + Er, Cr: YSGG laser + adhesive, (3) Er, Cr: YSGG laser + etching with 37% phosphoric acid for 15 " + adhesive, (4) etching with 37% phosphoric acid + adhesive, (5) Er,Cr: YSGG laser + adhesive.
Cada subgrupo recebeu cinco diferentes tratamentos: (1) aplicação do sistema adesivo segundo recomendações do fabricante, (2) condicionamento com ácido fosfórico 37% por 15” + laser Er,Cr:YSGG + adesivo, (3) laser Er,Cr:YSGG + condicionamento com ácido fosfórico 37% por 15” + adesivo, (4) condicionamento com ácido fosfórico 37% + adesivo, (5) aplicação do laser Er,Cr:YSGG + adesivo.
It was observed that etching with hexahydrated iron chloride provides a better visualization of the grain boundaries from the 25 seconds of surface immersion.
Observou-se que o ataque com cloreto de ferro hexahidratado proporciona uma melhor visualização dos contornos de grão a partir dos 25 segundos de imersão da superfície.
Fifty truncated-cones ceramic specimens (n=10) were randomly divided into 5 groups: Control- etching with hydrofluoric acid 10% for 1 min and application of silane; 2- Er - Er:YAG laser irradiation (2,0 mJ and 10 Hz), followed by etching with hydrofluoric acid 10% for 1 min and application of silane; 3- Sil + Er - etching with hydrofluoric acid 10% for 1 min, silane application and irradiation with Er: YAG laser in the same parameters as the previous group; 4- Nd:YAG laser - irradiation with Nd: YAG laser (1,0 mJ and 10 Hz), followed by etching with hydrofluoric acid 10% for 1 min and application of the silane, 5- Sil + Nd- etching with hydrofluoric acid 10% for 1 min, silane application and irradiation with Nd: YAG laser on the same parameters as the previous group.
Foram confeccionados 50 espécimes tronco-cônicos de cerâmica (n=10), divididos aleatoriamente em 5 grupos: 1- Controle- condicionamento com ácido hidrofluorídrico 10% por 1 min e aplicação do silano; 2- Er:YAG – irradiação com laser Er:YAG (2,0 mJ e 10 Hz), seguido do condicionamento com ácido hidrofluorídrico 10% por 1 min e aplicação do silano; 3- Silano + Er:YAG – condicionamento com ácido hidrofluorídrico 10% por 1 min, aplicação do silano e irradiação com laser Er:YAG nos mesmo parâmetros do grupo anterior; 4- Nd:YAG – irradiação com laser Nd:YAG (1,0 mJ e 10 Hz), seguido de condicionamento com ácido hidrofluorídrico 10% por 1 min e aplicação do silano, 5- Silano + Nd:YAG - condicionamento com ácido hidrofluorídrico 10% por 1 min, aplicação do silano e irradiação com laser Nd:YAG nos mesmo parâmetros do grupo anterior.
The aim of this study was to compare the bond strength of two systems (self- etching and conventional) to two substrates (enamel and dentin) either associated with laser technology (Nd:YAG) or not.
O objetivo deste estudo in vitro foi comparar a resistência adesiva de dois sistemas (autocondicionante e convencional) em dois substratos (esmalte e dentina), associados ou não à tecnologia laser (Nd:YAG).
...uced on top of a silicon substrate using conventional microelectronic procedures: chemical cleaning, thermal oxidation, sputtering deposition, optical lithography and wet chemical corrosion or plasma etching. Several tests performed using these processes enabled the determination of the best condition (SF6 etching. AZ-52,4 resist and resist removal with microstripper 20,1) for the implementation of rib w...
...stratos de silício, utilizando-se os processos convencionais de microeletrônica: limpeza química, oxidação térmica, deposição por "sputtering", litografia óptica e corrosões úmidas e por plasma. Os diversos testes realizados com estes processos permitiram encontrar as melhores condições (corrosão por plasma de SF6, resiste AZ-52,4 e remoção com microstripper 20,1) para a implementação de guias de onda "rib" com largura de 1 à 10 m usando profundidades de 70 nm para o guia de GeO2-PbO...
...ubstrate. Thus, the improvement of the adhesion represents a technological challenge to be achieved. in this module hard metal discs have been coated with a CVD diamond film after a previous chemical etching to remove the cobalt from the surface. After coating these discs were processed at high-pressure (7,7 GPa) and high temperature (5,0ºC and 10,0ºC). The main aim was to investigate the effect of thi...
... adesão entre o filme e o substrato ainda representa um desafio tecnológico a ser superado. neste módulo, após um ataque químico para remover o cobalto da superfície de deposição, pastilhas de metal duro foram recobertas com um filme de diamante CVD usando um reator de plasma ativado por micro-ondas. Estas pastilhas foram posteriormente processadas em alta pressão (7,7 GPa) e altas temperaturas (5,0 ºC e 10,0 ºC). O objetivo foi investigar o efeito desse processamento nas propriedades mecân...
...e development of the processes of microelectronic to reduce cost and to integrate different systems that become very trustful in different applications. It is being done a work in silicon anisotropic etching in Potassium hydroxide (KOH) added with metallic impurities aiming the study of the kinetic compensation effect and the influence of these metals in the anisotropy and in etch rates. It was analyzed ...
...es sistemas que passam a ser muito confiáveis em diferentes aplicações. Motivado pelas tendências de elevar os conhecimentos de processos para obtenção de MEMS, foi proposto um trabalho de corrosão anisotrópica de silício utilizando solução de hidróxido de potássio (KOH) junto com a adição de sais metálicos. O objetivo é comprovar o efeito de compensação cinética da reação e a influência destes metais no caráter anisotrópico e nas taxas de corrosão. Foi analisado o efeito de z...
...s of storage. Bond strength data (MPa) were analyzed by three-way repeated measures ANOVA and post-hoc Tukey test (α= 5%). Analysis were performed for each substrate separately. On sound dentin, the etching strategy did not influence bond strength of universal adhesives and no significant statistical differences were found for bond strength values after 6 months of water storage. On caries-affected dent...
...Os dados obtidos em MPa foram analisados por análise de variância de 3 fatores e teste de contraste de Tukey (α= 5%). A análise foi realizada separadamente para cada substrato. Em dentina hígida, a estratégia de condicionamento não teve influência na resistência de união dos adesivos universais e não houve diferença estatisticamente significante entre a resistência de união imediata e após 6 meses. Em dentina afetada, os sistemas adesivos apresentaram resultados similares, independente d...
...0,68%). The analysis of images obtained after the realization of in situ zymography showed greater enzyme activity when the dentin was demineralized in PA10%. Conclusion: The use of 37% PA for dentin etching during the restorative procedure might minimize collagen degradation by host-derived proteases. On the other hand, studies that have been using 1% or 10% PA might have overestimated MMPs activity whe...
...s a realização da zimografia in situ demonstrou maior atividade enzimática quando a dentina foi desmineralizada com AF10%. Conclusão: O uso do AF37% para o condicionamento da dentina durante a realização do procedimento adesivo pode minimizar os efeitos degradantes das proteases endógenas sobre o colágeno. Em contrapartida, estudos realizados com pó de dentina desmineralizado com AF1% ou 10% podem estar sobreestimando a atividade das MMPs, em relação à prática clínica....
...tudied: Group I - specimens sectioned with diamond disc and subdivided in: Group IA- specimens cleaned in ultrasonic bath for 15 minutes; Group IB - cleaned in ultrasonic bath 15 minutes, followed by etching with 5%, H3PO4, for 15 seconds. Group II - samples were fractured along the lesions axis and subdivided in: Group IIA - ultrasonic bath for 30 minutes; Group IIB - etching with 5%, H3PO4, for 15 secon...
...ncia: Grupo I - amostras da lesão seccionadas com disco, subdivididas em: Grupo IA - limpeza com ultra-som por 15 minutos; Grupo IB - limpeza com ultra-som por 15 minutos, seguida de condicionamento com H3PO4 a 5%, por 15 segundos. Grupos II - amostras fraturadas, subdivididas em: Grupo IIA - limpeza com ultra-som por 30 minutos; Grupo IIB - apenas condicionamento com H3PO4 a 5%, por 15 segundos; e Grupo III - amostras fraturadas e assim subdivididas: Grupo IIIA - controle, sem qualquer tipo de trata...
... selected and received surface treatments. Single Bond (SB) and Clearfil SE Bond (CSEB) systems were individually applied after dentin had been acid-etched or not, with phosphoric acid for SB or self- etching primer for CSEB. Immediately after adhesives application and before light curing, surfaces were lased, except for controls, using two power settings, 0,75 and 1W. So, 12 groups were des...
...da ou não ao pré-tratamento ácido do mesmo. Superfícies dentinárias planas foram criadas em 37 terceiros molares humanos extraídos, dos quais, 36 foram selecionados para teste. Os adesivos Single Bond (SB) e Clearfil SE Bond (CSEB) foram aplicados, com ou sem o condicionamento da dentina (ácido fosfórico para o SB e primer auto-condicionante para o CSEB). Após aplicação dos adesivos e antes de sua fotopolimerização, as superfícies foram irradiadas com laser, exceto para os controles, test...
...This work explores the implementation, characterization and applications of BOSCH type process for bulk silicon etching (or bulk silicon micromachining) using inductively coupled high density plasma (ICP). This etching process is characterized by its high anisotropy and is performed by alternating etching steps, employing SF6 + Ar gas mixture, and passivation steps, employing C4,8 + Ar gas mixture. Ni-P ...
...Este trabalho explora a implementação, caracterização e aplicações do processo tipo BOSCH para corrosão de silício em larga escala (bulk silicon etching ou bulk silicon micromachining) utilizando plasma de alta densidade produzido por acoplamento indutivo (ICP). Este processo de corrosão é caracterizado por proporcionar alta anisotropia e é realizado alternando-se etapas de corrosão, empregando-se mistura gasosa de SF6 e Ar, e de passivação, empregando-se mistura gasosa de C4,8 e Ar. São...
...ces and Microsystems manufacturing, carried out in the Center for Semiconductor Components, UNICAMP, aiming to develop processes in one of the most critical techniques of the microfabrication: plasma etching. in this module we developed etching processes of the following materials: silicon nitride (SiNx), silicon oxide (SiO2) and polycristalline silicon implanted with phosporus, used in the manufacturing...
...ivos CMOS e Microssistemas, realizados no Centro de Componentes Semicondutores da UNICAMP, pretendendo desenvolver processos em uma das técnicas mais críticas da microfabricação: corrosão de materiais por plasmas. neste módulo foram desenvolvidos processos de corrosão dos seguintes materiais: nitreto de silício (SiNx), óxido de silício (SiO2) e silício policristalino implantado com fósforo, usados na fabricação de dispositivos CMOS, além de silício monocristalino usado na fabricação d...
...ent of processes to obtain a back etch process for plug formation in via holes and of processes to obtain tungsten structures with vertical walls. At the same time, the mechanisms behind the tungsten etching were studied. These studies were mainly performed in two different types of equipment. The first one is a system with power applied at 25 kHz, instead of the traditional 13,56 MHz. The second equipme...
...resentamos o desenvolvimento de processos de "back-etch" para a formação de "plugs" e de processos para obter estruturas em tungstênio com paredes verticais. Ao mesmo tempo apresentamos o estudo dos mecanismos da corrosão de tungstênio por plasma. neste módulo usávamos principalmente dois tipos de equipamentos de corrosão por plasma. O primeiro tem a potência aplicada a uma frequência de 25 kHz, ao invés da tradicional 13,56 MHz. O segundo é do tipo reator com confinamento magnético. Em am...
...lower at the top than at the bottom of as-grown crystals and could be reduced through doping with Al. The ultrasonic vibration on the melt have affected the rotational striations in the crystals. The etching solution of H2,2 + H2SO4 diluted or not in water, has demonstrated the best performance for revealing typical defects in as-grown GaSb crystals....
...acionais do mesmo. Dos reagentes químicos testados, nos cristais de GaSb dopados com Al, para a caracterização dos defeitos de crescimento, o que apresentou o melhor desempenho e a maior seletividade foi o reagente H2SO4 + H2,2 diluído ou não, em água deionizada. Os defeitos típicos observados nos cristais crescidos por LEC foram discordâncias, estrias rotacionais e precipitados....
...pplication on resin-dentin bond strength in teeth restored with conventional adhesive. The study sample consisted of 30 human third molars, of which the dentin was exposed followed by phosphoric acid etching. The specimens were distributed in three main groups (CHX, thermal denaturation and control). Thermal denaturation consisted of immersion in water at 50ºC for 10 minutes. Control and thermal denatur...
...os 30 terceiros molares humanos que tiveram a dentina superficial exposta, seguido do condicionamento com ácido fosfórico e divididos em três grupos. O grupo controle e grupo CHX foram imersos em água a 37ºC durante 10 minutos e o grupo desnaturação em água a 50ºC durante 10 minutos. O grupo controle e desnaturação foram tratados de acordo com as instruções dos fabricantes e o grupo CHX com clorexidina a 2% após o condicionamento ácido e antes da aplicação do sistema adesivo. Os espéc...
...This study aimed to evaluate the resin-enamel bond strength, the etching pattern and the bonded interfaces provided by self-etch systems by means of scanning electron microscopy. The following adhesives systems (Scotchbond Multi-Purpose Plus [SBMP], Single Bond [SB], Clearfil SE Bond [CSE]; OptiBond Solo Plus Self-Etch [OP] or Tyrian Self Priming etching [TY] were applied to sound enamel (after tooth pro...
...O estudo objetivou avaliar a resistência da união de sistemas adesivos aplicados ao esmalte, bem como a morfologia do substrato condicionado e a qualidade da interface de união formada. Após o esmalte das superfícies lisas de molares receberem profilaxia com pedrapomes, abrasão por lixa ou desgaste por ponta de diamante, foram aplicados Scotchbond Multi-Purpose Plus (SBMP), Single Bond (SB), Clearfil SE Bond (CSE); OptiBond Solo Plus Self-Etch (OP) e Tyrian Self Priming Etching (TY). Os semidente...
...This work presents the results and the discussion about mechanisms of plasma etching of polysilicon and silicon films for applications in MEMS and MOS devices. The etching was performed in a conventional reactor of plasma etching. Applied Materials PE83,0A model, in a RIE mode (Reactive Ion Etching). For application in MEMS, polysilicon etching with anisotropic profile and high selectivity (>20) for sili...
...Este trabalho apresenta o desenvolvimento de processos de corrosão de filmes de silício policristalino por plasmas contendo flúor e cloro, para aplicações em dispositivos MEMS (Micro-Electro-Mechanical-Systems) e MOS (Metal Óxido Semicondutor). A corrosão foi feita em um reator RIE (Reactive Ion Etching) marca Applied Materials, modelo PE83,0A. Para aplicação em MEMS foram feitas corrosões de silício policristalino, com perfis anisotrópicos e seletividade maior que 20 para óxido de ...
...eatments analyzed were the following: air-borne particle abrasion with silica-coated aluminum oxide particles for 10 s with 10 mm distance (TBS); application of a ceramic overglaze on the surface and etching with 10% hydrofluoric acid gel (HF) for 1 min (GLZ1), 5 min (GLZ5), 10 min (GLZ10), and 15 min (GLZ15); and deposition of 5 nm thick SiO2 nanofilm by physical vapor deposition (PVD) (SNF). This last ...
...tamentos de superfície analisados foram: jateamento com partículas de óxido de alumínio revestidas por Sílica por 10 segundos e com 10 mm de distância (TBS); aplicação de glaze na superfície da cerâmica e condicionamento com ácido fluorídrico gel 10% (HF) por 1 min (GLZ1), 5 min (GLZ5), 10 min (GLZ10) e 15 min (GLZ15) e deposição de nanofilme de SiO2 com 5 nm de espessura através da deposição física de vapor (PVD) (SNF). Este último tratamento foi utilizado apenas no trabalho referen...
...to VAS, no statistically significant differences among the therapies were found after the time intervals that corresponded to the assessments after 15, 30 and 60 days. In the group without treatment, etching removed the smear layer and exposed the dentinal tubules. A film on the surface with infiltration of varnish plugs into the tubules was found in the fluoridated varnish group. The oxalate group prese...
...o) e menor no G3 (Sistema adesivo). Nos períodos que corresponderam às avaliações de 15, 30 e 60 dias, não houve diferença estatística entre as quatro terapias quanto à variação na EVA. Na análise morfológica do grupo sem tratamento, o condicionamento promoveu remoção de smear layer e exposição de túbulos dentinários. No grupo do verniz fluoretado observou-se uma película sobre a superfície, com plugs de verniz infiltrados nos túbulos. No grupo do oxalato ocorreu oclusão pa...
...n is one of the treatment options for severe injuries, where there is aesthetic/functional impairment. With the improvement of technology, laser-irradiation for pre-treatment of dentin before surface etching has been considered as an alternative method to improve the adhesion of composite resins to eroded surfaces. The objective of this in vitro study was to evaluate the influence of the irradiation with...
...ras, em que há comprometimento estético/funcional. Com o aprimoramento da tecnologia, a utilização do laser para pré-tratamento da superfície dentinária, antes do condicionamento ácido, tem sido considerada como método alternativo para melhorar a adesão das resinas compostas às superfícies erodidas. Assim, o objetivo deste estudo in vitro foi avaliar a influência da irradiação com laser de Er:YAG (2,94 ?m), de pulso super-curto, na adesão da resina composta à superfície dentinária er...
...This work was developed a software for simulate the anisotropic etching silicon, based on the behavior this etch in alkaline solutions (KOH). The software was written in language C++ for various platforms and has two basic modules that are the library of classes (called autosim) and an Graphical Interface (called AutoMEMS). The API developed has classes that implement three models of etch simulation that...
...Nesse trabalho foi desenvolvido um software para simular a corrosão anisotrópica do silício, tendo como base o comportamento desta corrosão em soluções alcalinas (KOH). Esse software foi escrito na linguagem C++ para diversas plataformas e possui dois módulos básicos que são a Biblioteca de classes (denominada autosim) e uma Interface Gráfica (denominada AutoMEMS). A API desenvolvida possui classes que implementam 3 modelos de simulação da corrosão que se baseiam no modelo matemático do a...
...gen peroxide (Whiteness HP) decreases the bond strength to dentin when two conventional adhesive systems (an acetone-based - Prime&Bond NT (PB); a water/ ethanol based - Single Bond (SB)) and a self- etching system (Clearfil SE Bond (SE) are applied. The second hypothesis was that there is no difference in bond strength values 7 days after bleaching. Thirty six specimens were prepared and divided into 9 ...
...etona (Prime & Bond NT) ou água e etanol (Single Bond) e do sistema adesivo autocondicionante (Clearfil SE Bond) e que após sete dias do clareamento os valores de resistência adesiva à dentina humana retornam aos valores dos dentes não submetidos a clareamento. Foram confeccionados 1,2 espécimes, divididos em 9 grupos: GRUPO 1- (controle) - sistema adesivo convencional Prime & Bond NT. GRUPO 2- (controle) - sistema adesivo convencional Single Bond; GRUPO 3- (controle) - sistema adesivo aut...
...t a significance level of 5%. Comparing the two forms of treatment the statistical test of Kruskal-Wallis. There is no statistically significant difference between the Bulk Fill resins, used when the etching techniques and self conditioning. In accordance with the Surefill - Dentsply resin showed a slight degree of leakage when there was no acid treatment. It was shown significant differences between the...
...sica 0,5% e secionados no sentido mésio-distal para avaliação. Os dentes foram avaliados quanto ao grau de micro-infiltração de forma qualitativa, com auxílio de uma lupa estereoscópica 40X (Coleman) por 03 examinadores calibrados atribuindo escores (0,3). Os resultados foram submetidos ao teste estatístico, em nível de significância de 5%, comparando as duas técnicas através do teste estatístico de Kruskal-Wallis. Não houve diferença estatística significante entre as resinas Bulk Fill,...
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