"Etching" é o processo de remoção da camada superficial de um dado material. Esta remoção pode ser conseguida recorrendo a substâncias químicas que dissolvem ou corroem a superfície do material. O Etching nada mais é do que um processo de corrosão muito bem controlado.
Meaning
Treatment of a surface with an acid, a chemical solution or primer in order to dissolve loose particles or provide a profile. (specialchem4coatings.co...)
Exemplos de tradução
Microstructure and domain patterns are revealed by chemical etching and observed by optical microscopy and electron scanning microscopy.
A microestrutura e as estruturas de domínios ferroelétricos sao reveladas por ataque químico e observadas por microscopia ótica e microscopia eletrônica de varredura.
Banco de Glossários (traduções não verificadas)
Área
Inglês
Português
Qualidade
Mecânica
chemical etching
Ataque químico
Téc/Geral
chemical etching
ataque químico
Frases traduzidas contendo "chemical etching"
Microstructure and domain patterns are revealed by chemical etching and observed by optical microscopy and electron scanning microscopy.
A microestrutura e as estruturas de domínios ferroelétricos sao reveladas por ataque químico e observadas por microscopia ótica e microscopia eletrônica de varredura.
In the sensor fabricated at CCS/Unicamp process, a backside bulk micro-machining was performed by using an automated KOH chemical etching apparatus, which provides a well-controlled anisotropic etching process.
Já para o sensor fabricado na tecnologia do CCS/Unicamp, utilizamos um aparato de corrosão química (solução de KOH) para corrosão anisotrópica do silício monocristalino e, desta forma, obtivemos uma membrana com maior qualidade.
The material was subjected to different heat treatments in order to modify their mechanical properties, and to the surface finishes of blasting, chemical etching and electropolishing to analyze their effects on surface finish.
O material foi submetido a diferentes tratamentos térmicos com o intuito de modificar suas propriedades mecânicas, e a acabamentos de jateamento, ataque químico e polimento eletroquímico para analisar os efeitos dos mesmos no acabamento de superfície.
In addition, the silica matrix can be easily removed after the pyrolysis under high pressure by chemical etching with fluoridric acid.
Trata-se de um sistema comercial, de baixo custo, que apresenta dispersão em nível atômico de material carbonáceo na matriz inerte de sílica.
This characterization was carried out before and after the chemical etching of the mineral surface.
Esta caracterização foi realizada antes e após o ataque químico da superfície do mineral zircão.
Chemical etching may be more applicable for situations requiring smaller structures produced using thinner SMA sheet.
The process of laser cutting or chemical etching is used to mass manufacture micro components for devices such as cameras and analogue watches.
O processo de corte a laser ou ataque químico é usado na fabricação em massa de microcomponentes para dispositivos, tais como câmeras e relógios analógicos.
Laser machining is more costly than chemical etching.
A usinagem a laser é mais custosa que o ataque químico.
The results of this work have shown that self-organized PAA nanostructures can be fabricated by one anodization step controlling the time of chemical etching process.
Os resultados deste trabalho mostraram que nanoestruturas de AAP autoorganizadas podem ser fabricadas por uma etapa de anodização controlando o tempo de corrosão química.
Two processing routes - chemical etching and laser cutting - were explored as routes to produce the required structure.
Duas vias de processamento – ataque químico e corte a laser – foram exploradas como rotas para produzir a estrutura necessária.
The method according to claim 1, characterized in that it includes a step consisting of performing chemical etching of the recovered adsorbent so as to break its structure and to release said gas stored in the adsorbent.
Método, de acordo com a reivindicação 1, caracterizado por incluir uma etapa consistindo em realizar ataque químico do adsorvente recuperado de modo a quebrar sua estrutura e liberar o referido gás armazenado no adsorvente.
This work conducted to characterize mechanicalandmicrostructural analysis by triple chemical etching techniqueof the steel ultra-high strength AISI 43,0, whichhas medium-carbon and low-alloy and microstructuralaspects correlated with the mechanicalproperties achieved.
Este trabalho realizoua caracterização mecânica e a análise microestrutural por tríplice ataque do aço de ultra-alta resistência AISI43,0,que possui médio teorde carbono ebaixa liga, e correlacionou os aspectos microestruturais com as propriedades mecânicas alcançadas.
...k is structured. In Chapter I it is made general considerations about generic properties a-C:H film and about chemical corrosions in aqueous solutions including generic considerations about Isotropic chemical etching and Anisotropic chemical etching models, as well as about the more probable stoichiometrics relations determining the global chemical reaction of the corrosion phenomenon. Chapter II is dedicated to ...
...e considerações gerais sobre propriedades do filme de carbono e sobre corrosões químicas em meios aquosos, incluindo-se considerações genéricas sobre os modelos das Corrosões Químicas Isotrópicas (CQI) e ,Corrosões Químicas Anisotrópicas (CQA) bem como as prováveis relações estequiométricas que regem a reação química global do fenômeno da corrosão. O Capítulo II é dedicado ao planejamento e execução das experiências bem como ao levantamento dos dados. Finalmente o Capítulo III é ded...
...entary rocks of the southern segment of the Brasília Belt sedimentary rocks of the Paraná Basin which currently arise on the surface. Other purpose of this paper is to investigate the effect of the chemical etching - used to reveal fission tracks - in the lattice, chemical composition, morphology and isotope geochemistry of zircon grains. The obtained results from the FT ages clearly show the metamorphic intens...
...sos tectônicos de possíveis fontes orogênicas localizadas no segmento sul da Faixa Brasília, que tenham fornecido detritos clásticos para a Bacia do Paraná. O estudo foi realizado em rochas metassedimentares do segmento sul da Faixa Brasília e em rochas sedimentares da Bacia Fanerozoica adjacente, que afloram atualmente. Objetiva-se também investigar a relação do ataque químico, utilizado na revelação dos traços de fissão, com a estrutura cristalina, composição química, morfologia e geoquímic...
...he end of the process, the film is totally free over the substrate surface, without any crack and with a low amount of defects. The substrate itself can be used several times, without the need of any chemical etching. The aim of this work was to understand the mechanisms responsible for the nucleation and growth of diamond on zirconia, specially the mechanism responsible for the releasing of the film from the sub...
...qualquer ataque químico para sua remoção. Nesse trabalho, procurou-se entender o motivo pelo qual o filme nucleia e cresce com alta cristalinidade na zircônia, e, principalmente, o mecanismo responsável pela não aderência do filme à superfície do substrato. Este é um problema que alia as propriedades físicas da superfície às características químicas no processo. Os resultados obtidos a partir de diferentes técnicas analíticas revelaram que a Zr02 PE sofre significativas alterações estruturais...
...quipment. The first one is a system with power applied at 25 kHz, instead of the traditional 13,56 MHz. The second equipment is a magnetically confined reactor. In both systems it is possible to have chemical etching and bombardment enhanced etching. We were able to develop good back etch processes in both equipment. It is possible to obtain tungsten structures with vertical walls in both equipment, but the selec...
... neste módulo usávamos principalmente dois tipos de equipamentos de corrosão por plasma. O primeiro tem a potência aplicada a uma frequência de 25 kHz, ao invés da tradicional 13,56 MHz. O segundo é do tipo reator com confinamento magnético. Em ambos os sistemas é possível obter corrosão química e corrosão induzida por bombardeamento iônico. Conseguimos obter bons processos de IIback-etch" em ambos os equipamentos. É possível obter estruturas de tungstênio com paredes verticais em ambos os equi...
...lass surfaces exposed to the furnace atmosphere (air) presented a much bigger crystallization effect, inversely to the bottom surface in contact with a silica base. The dissolution of silica glass by chemical etching (HF solutions) was studied, and the results showed that dissolution rate is dependent on the surface roughness, HF concentration and etching time. For example, the dissolution rate of samples treated...
...ção em comparação à outra com menor rugosidade. A dissolução da sílica vítrea por ácido fluorídrico ("etching") também foi estudado, e os resultados mostraram que a taxa de dissolução é dependente da rugosidade superficial, concentração do ácido e tempo de "etching". Resultados adicionais mostraram a formação de cavidades arredondadas na forma de "larvas" (padrão superficial) após "etching". Após um tempo de "etching" entre 33 e 88 horas, as amostras apresentaramum padrão superficial sem...
...and the substrate. Thus, the improvement of the adhesion represents a technological challenge to be achieved. in this module hard metal discs have been coated with a CVD diamond film after a previous chemical etching to remove the cobalt from the surface. After coating these discs were processed at high-pressure (7,7 GPa) and high temperature (5,0ºC and 10,0ºC). The main aim was to investigate the effect of thi...
...e ferramentas porque a adesão entre o filme e o substrato ainda representa um desafio tecnológico a ser superado. neste módulo, após um ataque químico para remover o cobalto da superfície de deposição, pastilhas de metal duro foram recobertas com um filme de diamante CVD usando um reator de plasma ativado por micro-ondas. Estas pastilhas foram posteriormente processadas em alta pressão (7,7 GPa) e altas temperaturas (5,0 ºC e 10,0 ºC). O objetivo foi investigar o efeito desse processamento nas propri...
...imens of weld cross section extracted from different pipes welded with 0,7 kJ/mm, 1,5 kJ/mm and 2,5 kJ/mm were evaluated. Afterwards, they were submitted to a metallographic preparation followed by a chemical etching using a modified Lepera reagent, and subsequently analyzed using the scanning electron microscopy technique (SEM), operating in SE mode. The austenite present in microstructure was quantified by usin...
... retirados corpos de prova da seção transversal do material soldado com diferentes energias, sendo elas 0,7 kJ/mm, 1,5 kJ/mm e 2,5 kJ/mm. Em seguida, foram submetidos a preparação metalográfica e analisados com a técnica de microscopia eletrônica de varredura para depois serem analisados pelos critérios de microestrutura e quantificação de fases para a construção dos diagramas de análise de variância. Os resultados obtidos a partir da análise dos diagramas mostram que um aumento na energia de sol...
...y of the parts. For that reason and also to ensure good integration among the components, the housing structure and microchannel plates were obtained by conventional methods of milling cutter and wet chemical etching. respectively. In the third step, a multicriteria optimization method was described to investigate and suggest a range of operating parameters such as temperature, ethanol mass fraction and volumetri...
...os componentes, a estrutura de compartimento do microrreator e as placas de microcanais foram obtidas por métodos convencionais de usinagem e corrosão química. Na terceira etapa, um método de otimização multicritério foi descrito para se investigar e sugerir uma faixa de parâmetros operacionais do microrreator como temperatura, fração de massa de etanol e fluxo volumétrico de alimentação. Nesta fase, entre os três modelos cinéticos selecionados, apenas um foi considerado o mais confiável para se...
... i) without irradiation; ii) as a function of the fluencyof alpha-particle radiation,to the CR-39 detector, and irradiation by induced nuclear fission, to the PAD detector andiii)as a function of the chemical etching time for each of the detectors. The CR-39 detectors were exposed to irradiation with a 2,6Ra source. On the other hand, the DAP detectors were exposed to fissionable atoms by induction ofthermal neut...
... i) sem irradiação; ii) em função da fluência de radiação com partículas alfa, para o detector CR-39, e irradiação por fissão nuclear induzida, para o detector DAP, e iii)em função do tempo de ataque químico para cada detector. Os detectores CR-39 foram expostos à irradiação com uma fonte de 2,6Ra, atingindo fluências da ordem de 10,3 alfas/cm2 . Por outro lado, os do tipo DAP foram expostos a átomos fissionados por indução de nêutrons térmicos, com fluência da ordem de 10,4 nêutrons/cm...
...ent an enhanced dissolution rate when compared to the non-damaged bulk mineral. Thus, in order to understand t he alterations caused by a thermal treatment, it is necessary to understand how does the chemical etching occur. A natural apatite crystal was cut in some crystallographic orientations (mainly basal and prismatic) and these samples were mounted in epoxy resin in order to obtain a fiat surface with polish...
...taveis em relação ao tratamento térmico e apresentam uma taxa de reação a dissolução muito mais elevada que o mineral não danificado. Assim, para compreender as alterações causadas pelos tratamentos térmicos e necessária entender como o processo de ataque químico ocorre. Um cristal natural de apatita foi cortado em algumas orientações cristalográficas (principalmente basal e prismática) e estas amostras foram montadas em resina para obtenção de uma superfície plana com técnicas de polimento...
...fusion in synthetic quartz (sweeping), by using for example 'AG¿ atoms in air, has an increasing technological interest as it makes the material highly resistant to the formation of etch-channels by chemical etching. The etch-channel free quartz is essential for advanced technology applications, such as, the very high frequency resonators and filters, which are processed by microlithography and etching technique...
...tzo sintético usando átomos de 'AG¿ em ar é de grande importância porque pode tornar o material altamente resistente à formação de "etch-channels", (canais "cavados" ao longo das linhas de discordâncias) por ataque químico. O material assim tratado encontra larga aplicação em tecnologia avançada, principalmente para a fabricação de ressonadores e filtros de altíssima freqüência processados por microlitografia. neste módulo desenvolvemos um estudo da influência das condições de eletrodifus...
...f the multiphase steels is closely related to their microconstituents. Therefore, the characterization and effective control of these materials microstructure are crucial, being that the processes of chemical etching are essential for this to occur. In order to discuss how the factors involved in the chemical etching with the Nital and LePera reagents influence in the metallographic characterization of the TRIP8,...
...ásicos é estreitamente relacionado com seus microconstituintes. Assim, a caracterização e controle efetivo da microestrutura desses materiais são cruciais, sendo que os processos de ataques químicos são essenciais para que isso ocorra. Neste contexto, com o intuito de discutir como os fatores envolvidos nos processos de ataques químicos com os reagentes de Nital e LePera influenciam na caracterização metalográfica dos aços TRIP8,0, DP6,0 e CP8,0, este estudo foi realizado. A utilização do Método ...
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