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Characteristic curves of capacitance as a function of the gate voltage (C-V) were used to analyze the degradation caused for these effects.
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(Substantivo)
Frases traduzidas contendo "tensão de porta"Characteristic curves of capacitance as a function of the gate voltage (C-V) were used to analyze the degradation caused for these effects.
Utilizamos curvas características da capacitância em função da tensão de porta (C-V), para analisar a degradação causada por estes efeitos.
Were first analyzed the basics parameters as threshold voltage and transconductance, in which all the model is based and was verified the influence of the mechanical stress and irradiation effects on these parameters, for analyze the gate voltage's behavior on ZTC point in n type devices.
Foram analisados primeiramente os parâmetros básicos de tensão de limiar e transcondutância, nos quais está baseado todo o modelo e verificado a influência dos efeitos do tensionamento e da radiação nos mesmos, para analisar o comportamento da tensão de porta no ponto ZTC em dispositivos do tipo n.
In this case, the effective channel length is modulated by the gate bias, which means that for each gate voltage drop there will be a different Leff, that is the main reason to improve the transistor characteristics.
Neste caso, o comprimento efetivo de canal torna-se modulável com a tensão de porta. ou seja, para cada valor de tensão na porta, haverá um valor diferente de Leff, e esta é a principal razão para a melhoria do transistor.
...Oxide- Semiconductor Field-Effect-Transistor), operating in conventional (VB=0V), dynamic threshold (DT2-UTBB, where the back-gate bias is equal to the front-gate one, VB=VG) and enhanced DT (kDT-UTBB, where the back-gate bias is a multiple value of the front-gate one, VB=kVG) modes. The working principle of these modes has been studied and the effect of different technologies and current trends were analyzed und...
...ando em modo convencional, de tensão de limiar dinâmica (DT2-UTBB, onde a tensão de substrato é igual à de porta, VB=VG) e modo DT2 melhorado (kDT, onde a tensão de substrato é um múltiplo da tensão de porta. VB=kVG). O princípio de funcionamento desses modos foi estudado e a influência de diferentes tendências e tecnologias atuais foram analisadas nessas condições de polarização como a presença do plano de terra (Ground Plane - GP), o escalamento da camada de silício e a ausência de uma regi...
...s (accumulation, depletion and inversion). The positive charge density (Qiq) at the SiNxOy/Si interface, in addition to having a positive charge, presented a linear behaviour with the surface potential (ys) or with the gate voltage (Vg) according to the results obtained from a numerical simulator developed for this application. Such behavior consisted of accommodating the positive charges at the SiNxOy/Si interfa...
... depleção e inversão). A densidade de cargas positivas (Qiq) na interface SiNxOy/Si além de ter resultado positivo, apresentou um comportamento linear com o potencial de superfície (ys) ou com a tensão de porta Vg de acordo com os resultados obtidos através de um simulador numérico desenvolvido para esta aplicação específica. Tal comportamento consistiu no acomodamento das cargas positivas na interface de forma que uma região de depleção profunda (Wd) é formada sem a presença da camada de invers...
...ion of potential drop on third interface (buried oxide/substrate). The interface trap density (Nit) was an important parameter on simulation adjustment to obtain drain current curves as function of front gate bias and back gate bias close to the experimental. The interface trap density of the front and back interface were adjusted to the value of 2,10¹¹ e V-1 cm-2 after the experimental curves were analyzed. So...
...erface (óxido enterrado/substrato). A densidade de armadilhas de interfaces (Nit) foi um parâmetro importante no ajuste da simulação para se obter curvas de corrente de dreno (IDS) em função da tensão de porta (VGF) e em função da tensão de substrato (VGB) similares às experimentais. As densidades de armadilhas de interface da primeira e da segunda interface foram ajustadas para o valor de 2,1011eV-1cm-2 depois de analisadas as curvas experimentais. Assim, a partir dessas simulações pode-se notar q...
... composed of number fluctuations related flicker noise with on top generation and recombination noise humps, which become more pronounced at higher gate voltage. However, the most important finding is the fact that DTMOS devices showed practically the same LF noise magnitude in linear and saturation region than standard Bulk device. Proton irradiation with energy of 60 MeV and fluence of p/10,2 cm-2 is also exper...
...compostos por flutuações referentes ao número de portadores devido ao ruído flicker e por ondas de ruído de geração e recombinação no dielétrico de porta que se torna maior com o aumento da tensão de porta. No entanto, o principal fato desta análise é que o dispositivo DTMOS apresentou praticamente a mesma magnitude do ruído LF na região linear e de saturação que o dispositivo de Corpo. A energia de 60 MeV na fluência de p/10,2 cm-2 de radiações de prótons é também estudada experimentalme...
...rom direct tunneling, occurred in the silicon oxynitrides. For Al-gate MOS tunnel diodes, it was observed the presence of two characteristic peaks in the C-V curve: the first for more negative gate voltage with a phenomenology that allows one to extract the flat band voltage (VG = VFB). The second peak was located at a gate voltage VG = VK = -0,78V corresponding to a depletion regime and its maximum of capacitanc...
...ente de tunelamento direto ocorreu no oxinitreto de silício crescido. Nos diodos túnel MOS, com porta de Al, observou-se a presença de dois picos característicos na curva C-V, o primeiro deles em tensão de porta mais negativa com uma fenomenologia que permitiu extrair a tensão de faixa plana (VG = VFB). O segundo pico na característica C-V do diodo MOS com porta de Al ocorreu em uma tensão menos negativa VG=VK= -0,78V o que foi atribuído à uma capacitância devido às armadilhas de interface Si?N loca...
... 8,5V to 35V. The interface provides two main features, the first one is to allow low voltage circuits supplied with 5V to control the switching of power PMOS transistors with a gate voltage 5V bellow the supply voltage. The second one is monitoring overcurrents on the high voltage load alerting with a low voltage signal these occurences. The interface was designed and fabricated on the CMOS XC06 - 0,6µm ...
...e 8,5V a 35V. A interface fornece duas funções básicas: a primeira é permitir que circuitos alimentados no domínio dos 5V controlem o chaveamento de transistores de potência PMOS com uma tensão de porta 5V abaixo da tensão de alimentação; a segunda é realizar o monitoramento de sobrecorrentes na carga de alta tensão, alertando, com um sinal de baixa tensão, estas ocorrências. A interface foi projetada e fabricada no processo CMOS XC06 - 0,6µm da XFAB, com a inclusão de módulos que permit...
... transistors (order of magnitude of ?A). The drain current of this device showed a particular behavior where the drain current stabilizes from a certain gate voltage. In this condition, the BE SOI MOSFET does not act as a conventional transistor anymore and its current is proportional to the substrate bias. Measurements as a function of the temperature were performed in the device too. It was observed an increase...
...ização utilizadas), quanto para transistores tipo p (na ordem de ?A). O comportamento da curva de corrente de dreno deste dispositivo apresentou uma estabilização a partir de determinado valor de tensão de porta. A partir deste ponto o BE SOI MOSFET deixa de atuar como um transistor convencional e passa a ter sua corrente de dreno proporcional a tensão de substrato. Medidas em função da temperatura nesta segunda versão permitiram comparar os resultados com os da primeira versão. Percebeu-se a ausênci...
...for different transistors, have been analysed. Initially, the mechanisms capable of leading to some sort of hysteresis on the drain-source current as a function of the gate voltage on a SOI transistor operating in DC were studied. Through these properties many times regarded as parasitic it was possible to explore the behavior of a single SOI transistor operating as a memory cell. Afterwards, this work analyzes d...
...riormente verificadas para diferentes tipos de transistores. Inicialmente, foram estudados os mecanismos capazes de promover algum tipo de histerese na curva de corrente de fonte-dreno em função da tensão de porta de um transistor SOI em DC. Por meio destas propriedades, muitas vezes vistas como parasitárias, foi possível explorar o comportamento de um único transistor como célula de memória. Em seguida, passou-se às medidas dinâmicas, momento no qual foi necessário desenvolver um arranjo expe...
...and the current response to the incident light was in the range of 1 to 8mA/cm2, which is compatible with energy conversion for indoor and outdoor environments (energy harvesting). The current density x gate voltage (JxVG) characteristics of the MOS solar cells presented a nearly linear behavior since the short-circuit current density (JSC) till to the open circuit voltage (VOC) so that the maximum generated powe...
...resposta à luz incidente na faixa de 1 a 8mA/cm2 compatível com aplicações de conversão de energia em ambientes internos e externos (energy harvesting). A característica densidade de corrente x tensão de porta (JxVG) das células solares apresentou um comportamento aproximadamente linear desde a densidade de corrente de curto-circuito (JSC) até a tensão de curto-circuito (VOC) implicando em potência gerada máximas (PGmáx) de até centenas de µA/cm2 para VG ? VOC/2 para uma ampla faixa de intensidad...
...en the recombination process and the effective mobility degradation factor. A first evaluation of the GIFBE occurrence in new devices was also performed. When the focus is the strained silicon transistor, a occurrence of GIFBE was obtained for a lower gate voltage. Although, the GIFBE occurs earlier for strained transistor. This effect is less pronounced in this device because it presents strong effective mobilit...
...da mobilidade. Uma primeira análise do GIFBE em diferentes estruturas de transistores também foi realizada. Apesar dos transistores de canal tensionado apresentarem o efeito para valores menores de tensão de porta. este efeito se manifesta com menor intensidade nestes transistores, devido a alta degradação da mobilidade efetiva apresentada pelo mesmo. Entretanto, quando o foco são os transistores de múltiplas portas, os resultados obtidos demonstram que apesar destes dispositivos terem sido fabricados co...
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